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三星已確保3nm芯片工藝良品率穩定

來源:中關村在線 2021-10-09 18:32:43

據韓國媒體報道,三星已確保3nm制程工藝有穩定的良品率,并計劃在明年6月份開始量產。

據悉,采用這一工藝代工的芯片,性能較 5nm 將提升 50%,能耗降低 50%。三星在3nm工藝的研發當中率先引入了全新的GAA(Gate-all-around,環繞柵極)技術。

值得一提的是,三星3nm工藝將領先對手臺積電。此外,三星還宣布更先進的2nm制程將于2025年量產。2nm制程技術將使芯片性能、能效進一步提升,繼續推進電子產品的小型化。

標簽:三星確保3nm芯片

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